Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM).
Anotace v angličtině
This diploma thesis focuses on the technique of electron lithography and the preparation of microstructures in commercially available material Sigma Aldrich photoresist and KMPR 1010 phooresist using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and electron beam setting. The microstructures are evaluated using an optical microscope, a mechanical profilometer and a scanning electron microscope (SEM).
Electron beam lithography, polymer resist, process of resist development, optical microscopy, mechanical profilometry, Sigma Aldrich photoresist, KMPR 1010
Rozsah průvodní práce
88
Jazyk
CZ
Anotace
Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM).
Anotace v angličtině
This diploma thesis focuses on the technique of electron lithography and the preparation of microstructures in commercially available material Sigma Aldrich photoresist and KMPR 1010 phooresist using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and electron beam setting. The microstructures are evaluated using an optical microscope, a mechanical profilometer and a scanning electron microscope (SEM).
Electron beam lithography, polymer resist, process of resist development, optical microscopy, mechanical profilometry, Sigma Aldrich photoresist, KMPR 1010
Zásady pro vypracování
Literární rešerše – příprava struktur elektronovým svazkem.
Výběr materiálů vhodných pro zápis elektronovým svazkem.
Příprava tenkých vrstev pro zápis elektronovým svazkem.
Zápis struktur elektronovým svazkem.
Charakterizace připravených struktur.
Vyhodnocení výsledků a diskuze.
Formulace závěru.
Zásady pro vypracování
Literární rešerše – příprava struktur elektronovým svazkem.
Výběr materiálů vhodných pro zápis elektronovým svazkem.
Příprava tenkých vrstev pro zápis elektronovým svazkem.
Zápis struktur elektronovým svazkem.
Charakterizace připravených struktur.
Vyhodnocení výsledků a diskuze.
Formulace závěru.
Seznam doporučené literatury
A. A. Tseng, Kuan Chen, C. D. Chen and K. J. Ma, "Electron beam lithography in nanoscale fabrication: recent development," in IEEE Transactions on Electronics Packaging Manufacturing, vol. 26, no. 2, pp. 141-149, April 2003, doi: 10.1109/TEPM.2003.817714.
RAI-CHOUDHURY, P. Handbook of microlithography, micromachining, and microfabrication. London, UK: Institution of Electrical Engineers, c1997. IEE materials & devices series, 12A-12B. ISBN 0819423793.
Seznam doporučené literatury
A. A. Tseng, Kuan Chen, C. D. Chen and K. J. Ma, "Electron beam lithography in nanoscale fabrication: recent development," in IEEE Transactions on Electronics Packaging Manufacturing, vol. 26, no. 2, pp. 141-149, April 2003, doi: 10.1109/TEPM.2003.817714.
RAI-CHOUDHURY, P. Handbook of microlithography, micromachining, and microfabrication. London, UK: Institution of Electrical Engineers, c1997. IEE materials & devices series, 12A-12B. ISBN 0819423793.
Přílohy volně vložené
-
Přílohy vázané v práci
-
Převzato z knihovny
Ne
Plný text práce
Přílohy
Posudek(y) oponenta
Hodnocení vedoucího
Záznam průběhu obhajoby
Student představil komisi výsldky své diplomové práce. Poté byla komise seznámena s posudky a hodnocením vedoucího a oponenta (hodnocení vedoucího: A - výborně, hodnocení oponenta:C - dobře ). V rámci posudků byly studentovi položeny následující dotazy oponenta: doc. Ing. Antonín Minařík, Ph.D. - 1. Byla kontrolována čistota křemíkových destiček před depozicí polymerních vrstvy? 2. Kolikrát byly měřeny tloušťky rezistů u jednotlivých experimentů? 3. Jakým způsobem byste odstranil veškeré nečistoty z povrchu křemíku? Existují pro tento účel postupy používané při výrobě mikroelektroniky? Pokud ano popište příklad vybraného postupu. OTÁZKY BYLY ZCELA ZODPOVĚZENY.. Poté byla vedena diskuze o diplomové práci, během které byly jednotlivými členy komise položeny následující dotazy: doc. Mráček - Jaký je smysl v používání materiálu, který je primárně označen pro fotolitografii, jestliže nemáme dostatek kvalitních materiálů, které jsou pro el. litografii mnohem lepší? OTÁZKA BYLA ZCELA ZODPOVĚZENA. Doc. Bartošík - Sigma Aldrich zůstávala rezidua? Viditelná opticky nebo pomocí profilometru? Kde na vzorku Si? Kolik tlouštka rezistu? OTÁZKY BYLY ZCELA ZODPOVĚZENY.